产业链节点 / NODE · 电子化学品
晶圆制造 Wafer Fab
资源 19→中间体与试剂 17→电子化学品 15→电子材料 24→下游应用 8
节点事实研报库实测
研报库断言12 条覆盖 1 个主体 · 产品 12
关联公司研报语料
中芯国际 1北方华创 1华海清科 1华虹公司 1安集科技 1拓荆科技 1晶方科技 1甬矽电子 1盛合晶微 1联电 1
链上厂商策展
中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储；台积电、三星（海外）
关联行业研报语料
电子（一级） 20半导体（二级） 18半导体设备（三级） 8集成电路封测（三级） 6电子化学品Ⅱ（二级） 2电子化学品Ⅲ（三级） 2集成电路制造（三级） 1
该链主服务行业策展
电子化学品；次要：半导体、化学制品
关联产品研报库
晶圆制造 12
口径：断言数与公司 / 行业 / 产品 / 市场来自研报断言库（216,857 条 claim）的实测归一； 链上厂商、链主服务行业、下游应用与回收回补路径来自产业链图谱策展。两条来源不可互相替代。
上下游关系
上游（原料 / 中间体）
- 多晶硅 · 单晶硅片
- 稀土靶材（钕 / 铽 / 镝等） · 磁控溅射镀膜
- 稀土抛光粉（氧化铈） · CMP 精密抛光
- 电子级磷酸 · 电子级酸（清洗 / 蚀刻）
- 电子级硝酸 · 金属蚀刻
- BOE 缓冲刻蚀液 · 缓冲刻蚀
- 电子级氢氟酸 · 清洗 / 刻蚀（BOE）
- 电子级硫酸 · 洗液（SPM）
- 电子级双氧水 · 清洗（SC1 / SC2）
- 电子级氨水 · 清洗（SC1 碱组分）
- 显影与剥离液 · 显影 / 剥离
- 电镀液与添加剂 · 铜互连电镀
- 电子级异丙醇 · 清洗 / 脱水
- TEOS / 硅前驱体 · CVD / ALD
- 电子特气 · 刻蚀 / 腔室清洗
- 半导体光刻胶 · 光刻
- CMP 抛光液 · 化学机械抛光
- CMP 抛光垫 · 抛光耗材
- 氦气 · 氦气冷却 / 保护气
- 工业气体（管道气 / 现场制气 / 零售气） · 公用工程气体
- FEP 聚全氟丙烯 · 氟流体管路
- 溅射靶材 · 溅射薄膜
- 石英坩埚 · 拉晶配套
主要工艺环节（粗口径）
只列工艺路线大类,不含工艺条件与参数。
单晶硅片磁控溅射镀膜CMP 精密抛光电子级酸（清洗 / 蚀刻）金属蚀刻缓冲刻蚀清洗 / 刻蚀（BOE）洗液（SPM）
供应链事件 示例
演示数据,用于展示页面结构与咨询入口;不代表实际行情或已发生的供应链事件。
日本对韩半导体材料出口管制:光刻胶供应链的教科书案例2019 年 7 月日本限制向韩国出口光刻胶 / 高纯氟化氢 / 氟聚酰亚胺,韩国晶圆厂被迫转向日本以外供应商并加速国产验证。是电子化学品「卡点 + 国产替代」最完整的公开案例。公开报道整理
把节点放进整条链看
单节点看不到传导。在 电子化学品产业链图谱 中以它为中心查看 ±2 跳关联, 或回到 产业链总览。
技术要求 / NOTES
- 本页为示例口径,非实时行情;真实口径事件面向 VIP。
- 厂商线索为公开信息节选,完整口径面向 VIP。
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- 数据截至 2026-11-02;引用请注明「© 上海世佳特科技有限公司」。
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| 图号 | SJT-EC-FAB | 版本 | 2026.11.02-r1 |
|---|---|---|---|
| 口径 | 示例 · 非实时 | 数据截至 | 2026-11-02 |
| 绘制 | gen-node-pages.py | 审核 | — |